SCREEN Semiconductor Solutions Co., Ltd. (SCREEN SPE, presidente: Masato Goto), uma empresa do SCREEN Holdings Group (TOKYO: 7735), finalizou o desenvolvimento de seu novo sistema de limpeza de wafer simples SS-3300S tipo depurador1. O SS-3300S oferece desempenho altamente estável em velocidades de processamento de até 1.000 wafers por hora,2 permitindo-lhe oferecer produtividade líder do setor. As vendas do sistema começarão em dezembro.
O mercado de data center se expandiu significativamente nos últimos anos, impulsionado pelo aumento contínuo no tráfego de dados necessário para atividades como trabalho remoto, e-learning e streaming de vídeo. Ao mesmo tempo, a rápida adoção de smartphones compatíveis com 5G e infraestrutura IoT, principalmente para aplicações industriais e em veículos, criou uma demanda crescente por semicondutores sofisticados necessários para esses e outros mercados de ponta.
Em resposta, os fabricantes de semicondutores têm melhorado consistentemente a miniaturização e integração dos circuitos para lógica avançada e ICs de memória, levando a um requisito ainda maior para a remoção de partículas microscópicas durante os processos de fabricação de semicondutores. Mais especificamente, isso criou uma demanda crescente por sistemas de limpeza de wafer simples do tipo depurador de alto rendimento que possam fornecer um nível mais alto de desempenho de limpeza, bem como recursos de processamento mais estáveis.
Com base nessas tendências, a SCREEN SPE desenvolveu o SS-3300S, um sistema de limpeza de wafer único, do tipo depurador, que oferece produtividade líder do setor. O SS-3300S herda a mesma confiabilidade de processamento amplamente elogiada que já viu o SS-3200 se tornar o padrão de fato da indústria neste campo, com mais de 500 sistemas vendidos em todo o mundo. O SS-3300S também torna possível continuar usando exatamente as mesmas condições de processamento que as desenvolvidas para o SS-3200, garantindo a introdução tranquila de um novo sistema.
Inaugurado na indústria3 para um sistema do tipo depurador, o SS-3300S é equipado com uma nova plataforma que permite a instalação de até 16 câmaras. Além disso, um novo sistema de transporte duplo melhora drasticamente o volume de produção para a área de cobertura do sistema, ajudando o SS-3300S a atingir o nível mais alto de capacidade de processamento prático da indústria em até 1.000 wph (ganho de 25% em comparação com modelos convencionais). Da mesma forma, um sistema de controle redesenhado significa que o SS-3300S está pronto para IoT e conexão entre sistemas, conforme exigido pela atual transição para fábricas inteligentes.
1. Método em que os wafers são limpos fisicamente com escovas macias e água pura.
2. Pico de rendimento durante a operação contínua com a mesma receita de fluxo.
3. Baseado na pesquisa interna da SCREEN.
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Fonte: BUSINESS WIRE